反射型投影光学装置

従来技術より、光量が約４倍、倍率が約２０倍改善します。

概要

　本発明は、反射鏡を利用した投影光学装置、特に各種顕微鏡等に好適な反射型の投影光学装置に関する。一般的な反射型投影光学装置 では、結像に伴う収差を低減させるため、一組の凹面鏡と凸面鏡で構成されるシュワルツシルト光学系が用いられる。しかしながら、この種の従来装置では、高分解能での観察には、拡大光学系の結像倍率が不足するという問題があった。例えば、シュワルツシルト光学系で容易に実現できる焦点距離は、作成可能な反射鏡の外径で制限され、１０ｍｍ程度であり、 1m程度の全長で実現できる結像倍率は最大で１００倍程度である。このため、試料上で10nmの空間分解能を得るには、２次元検出器には1μm以下の分解能が要求されるが、この波長域で広く用いられる背面照射型ＣＣＤの最小画素サイズは10μm程度であり、１桁程度検出器の分解能が不足するといった課題があった。　
　本発明は、図１の方式を利用する事で、結像倍率や光量を従来装置に比べて著しく向上可能である、全て反射鏡で構成した反射型投影光学装置に関する。

効果・応用例

●応用例　
・透過型軟Ｘ線顕微鏡 →対物鏡を顕微鏡本体から取り外さずに波面収差を定量的に計測可能。
・リソグラフィー用検査装置

知的財産データ

知財関連番号　： 特許4848510、特許5388227、特願112006000684.3（ドイツ）、特許5489034(T08-062)
発明者　　　　： 豊田　光紀、山本　正樹
技術キーワード： 制御、計測、機械