電子線ホログラムの作成方法、磁場情報測定方法および磁場情報測定装置

印加磁場が電子に与える影響を可視化し、電子/スピン分布の直接観察・評価が可能！

概要

　従来、電子線ホログラフィーを用いて、各種物質内のナノスケールでの電場や磁場を可視化したり、帯電による電子の動きを可視化したりすることが行われてきた。しかし、試料に印加した磁場が試料表面や試料表面近傍に存在する二次電子に対してどのような影響を与えるかについては、未だ可視化して評価することができないという課題があった。

　本発明によって、磁場の印加が試料表面や試料表面近傍に存在する二次電子に対して与える影響を可視化して評価することができる電子線ホログラムの作成方法、磁場情報測定方法および磁場情報測定装置を提供することが可能となった。本発明は、試料に磁場を印加した状態で試料の影響を受けた電子線からなる物体波と、試料の影響を受けない電子線からなる参照波とを干渉させて電子線ホログラムを作成することを特徴とする。

印加磁場増大に伴い磁束密度が相対的に変化

応用例

・スピントロニクスのデバイス開発　
・極微小領域での磁気現象の解明
・生体組織や細胞の磁気的性質と生理機能との関係の解明

関連文献

[1] D. Shindo, Z. Akase, Mater. Sci. Eng. R Rep. 142(2020)100564

知的財産データ

知財関連番号　： 特許6786121 (日本)、 11,067,649（アメリカ）
発明者　　　　： 進藤　大輔、佐藤　隆文
技術キーワード： 制御、計測、機械