酸化ガリウムの製造方法

低コスト・低温・簡単な酸化ガリウム製造工程を実現

概要

　γ-酸化ガリウム(γ-Ga₂O₃)は、酸化ガリウムの準安定構造の一つであり、優れた触媒特性を有している。ただ、合成が困難であることが知られ ている。従来の製造方法として、硝酸ガリウム水和物を尿素と共に蒸留水に溶解させた後、それを500℃で燃焼することにより、γ-Ga₂O₃ナノ 粒子を得る方法などが開発されている。しかし、この方法では高温処理用の設備が必要となり、設備費などの製造コストが嵩むという課題があった。
　本発明によって、低温かつ比較的簡単な工程でγ-Ga₂O₃を製造することができ、製造コストを低減することができる酸化ガリウムの製造方法 を提供することが可能になった。本発明は、液体のガリウムと還元剤とを含む原料溶液に対して、超音波を照射することを特徴とする。それにより、ガリウムの粒子を微細化することができ、その表面にγ-Ga₂O₃の結晶 を有する粒子を形成することができる。これによって、燃焼工程や複雑な分離・洗浄工程が不要となり、製造コストを抑え、低温かつ比較的簡単な工程でγ-Ga₂O₃を製造することができる。

γ-Ga₂O₃の存在がXRDスペクトルで確認された

応用例

・ワイドギャップ半導体
・パワーデバイス

知的財産データ

知財関連番号　： 特開2021-66636
発明者　　　　： 林　大和、高野　裕希、滝澤　博胤
技術キーワード： γ-Gallium oxide、nanoparticle、Microwave process